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具有嵌入式金属网的高性能,灵活,透明电极的可扩展解决方案处理制造策略

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11:09 min

June 23rd, 2017

DOI :

10.3791/56019-v

June 23rd, 2017


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124

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Title

1:27

Photolithography-based Fabrication of an Embedded Metal-mesh Transparent Electrode (EMTE)

10:05

Conclusion

8:33

Results: EMTE Fabrication by the Lithography, Electroplating, and Imprint Transfer (LEIT) Method

5:14

Electron-beam Lithography-based Fabrication of a Sub-micron EMTE

7:44

EMTE Characterization

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