Deposição de camada atômica de dióxido de vanádio e um modelo ótico de temperatura-dependente
Please note that all translations are automatically generated. Click here for the English version.
11.8K Views
•
11:10 min
•
May 23rd, 2018
DOI :
May 23rd, 2018
•Capítulos neste vídeo
0:04
Title
0:56
Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
3:06
Annealing Amorphous VO2 Thin Films
4:45
Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
5:43
Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
7:31
Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
9:06
Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
10:49
Conclusion
Vídeos relacionados
08:25
Chemical Vapor Deposition de um ímã Orgânica, vanádio tetracianoetileno
11.4K Views
10:52
Formação de espessas densas ítrio Ferro Garnet Films Usando Aerosol Deposição
9.2K Views
08:14
Melhoria da Qualidade Heterojunction em Cu
12.1K Views
08:18
Síntese e Caracterização de alta c-eixo ZnO Thin Film por Plasma aprimorado Chemical Vapor Deposition Sistema e sua Aplicação Photodetector UV
15.2K Views
08:58
Crescimento sem sementes de bismuto Nanowire matriz via vácuo evaporação térmica
8.3K Views
06:39
Aerossol-assistida de deposição de Vapor químico de estruturas de óxido de Metal: hastes de óxido de zinco
13.0K Views
11:54
Crescimento e eletrostático química/Propriedades de Metal/LaAlO3/SrTiO3 estende
10.2K Views
09:12
Produção de Single Tracks de Ti-6Al-4V pela deposição de energia dirigida para determinar a espessura de camada para deposição de várias camada
9.2K Views
09:41
Granel e síntese de película fina de óxidos de entropia-estabilizado em termos de composição variantes
9.4K Views
08:23
Óxido de nióbio filmes depositados por sputtering reativa: efeito da taxa de fluxo de oxigênio
7.3K Views
Copyright © 2025 MyJoVE Corporation. Todos os direitos reservados