הפרוטוקול שלנו מדגים את הפרטים של המצאת התקני גל אקוסטי משטח טיפוסי על מצעים פיזואלקטריים בעלי ערך רב במיוחד עבור אנשים המבקשים להיכנס לשדה המתפתח הזה. שמירה על כל פסולת מפני השטח במהלך הניקוי הוא חיוני בתהליך של ייצור. כדי לשבור מראש את הוופל, מניחים אותו על לוחית חמה ב 100 מעלות צלזיוס במשך שלוש דקות.
ואז להעביר את הוופל לרדיד אלומיניום. מניחים את הוופל על מעיל ספין. בעזרת טפטפת, מניחים פוטורסיסט שלילי על הוופל המכסה כ-75% משטח הוופל.
כדי לייצר עובי פוטו-רסיסטי של כ-1.3 מיקרומטר, בצע את התוכנית הבאה על מעיל הספין:500 סל"ד עם האצה של 3,000 סל"ד לשנייה למשך חמש שניות, ואחריו 3, 500 סל"ד עם האצה של 3,000 סל"ד לשנייה למשך 40 שניות. אופים את הוופל על ידי הנחתו על לוחית חמה ב 100 מעלות צלזיוס. מגבירים את טמפרטורת החום ל-150 מעלות ושומרים על הטמפרטורה למשך דקה אחת.
ואז להזיז את הוופל מן החום ולתת את רקיק להתקרר באוויר לטמפרטורת החדר. אין למקם את הוופל ישירות על החם ב-150 מעלות צלזיוס. תן למים להתקרר באוויר לאחר החימום.
כדי לחשוף את הפוטוגרסיסט לאנרגיה אולטרה סגולה, העבר את הוופל למיישר המסכות. עם מיישר המסכה להגדיר כדי לספק אור ב 375 ננומטר, לחשוף את photoresist למינון אנרגיה של 400 millijoules לס"מ מרובע. כדי לאפות את הוופל, מניחים אותו על לוחית חמה ב 100 מעלות צלזיוס.
לאחר שלוש דקות, מעבירים את הוופל לרדיד אלומיניום, שם הוא יתקרר לטמפרטורת החדר. מניחים את הוופל לתוך מקור מלא מפתח RD6 טהור. השאירו את הוופל שקוע במשך 15 שניות תוך טלטול עדין של הסק.
הסר את הוופל מהמפתח וטבול אותו במים deionized במשך דקה אחת. ואז לשטוף את הוופל תחת זרימת מים deionized. לבסוף, להשתמש בזרימת חנקן יבש כדי להסיר את המים הנותרים מן הוופל.
אופים את המים שוב ב 100 מעלות צלזיוס. לאחר שלוש דקות, מעבירים את הוופל לרדיד אלומיניום, שם הוא יתקרר לטמפרטורת החדר. מניחים את הוופל לתוך מערכת תצהיר sputter ולפנות את התא ללחץ של חמש פעמים 10 לשישה מיליטור שלילי.
לאחר מכן, זרם ארגון ב2.5 מיליטור. ואז כרום sputter עם כוח של 200 וואט עבור חמישה ננומטר כשכבת הידבקות. כדי ליצור את האלקטרודות מוליך, להפקיד אלומיניום ב 400 ננומטר ורמה כוח של 300 וואט.
מעבירים את הוופל לסק ומטבולים אותו באצטון. מנקים את הסקילר בעוצמה בינונית למשך חמש דקות. שוטפים את הוופל במים מיונים ומייבשים את הוופל בזרימת חנקן.
מניחים את הוופל על לוחית חמה ב 100 מעלות צלזיוס במשך שלוש דקות. ואז להעביר אותו על פיסת רדיד אלומיניום ולחכות שזה יתקרר לטמפרטורת החדר. מניחים את הוופל לתוך מערכת תצהיר sputter ולפנות את התא ללחץ של חמש פעמים 10 לשישה מיליטור שלילי.
זרם ארגון ב 2.5 מיליטור ולאחר מכן כרום sputter עם כוח של 200 וואט עבור חמישה ננומטר כשכבת הידבקות. לאחר מכן, טופס אלקטרודות מוליך על ידי sputtering זהב עבור 400 ננומטר ברמת כוח של 300 וואט. מניחים את הוופל על מעיל ספין.
בעזרת טפטפת, הפקידו פוטורסיסט חיובי על הוופל המכסה כ-75% משטח הוופל. כדי לייצר עובי פוטו-רסיסטי של כ-1.2 מיקרומטר, בצע את התוכנית הבאה על מעיל הספין:500 סל"ד עם האצה של 3,000 סל"ד לשנייה למשך 10 שניות, ואחריו 4,000 סל"ד עם האצה של 3,000 סל"ד לשנייה למשך 30 שניות. ואז מניחים את הוופל על לוחית חמה ב 100 מעלות צלזיוס.
לאחר דקה אחת, להעביר את הוופל על רדיד אלומיניום שבו הוא יתקרר לטמפרטורת החדר. מעבירים את הוופל ליישור המסכות. עם מיישר המסכה להגדיר כדי לספק אור ב 375 ננומטר, לחשוף את photoresist למינון אנרגיה של 150 millijoules לס"מ מרובע.
מקם את הוופל בתוך מקור מלא במפתח AZ300MIF טהור. השאירו את הוופל בפקק למשך 300 שניות וטלטלו בעדינות את הסק. הסר את הוופל מהמפתח וטבול אותו מים deionized במשך דקה אחת.
ואז לשטוף את הוופל תחת זרימה deionized. לבסוף, להשתמש בזרימת חנקן יבש כדי להסיר את המים הנותרים מן הוופל. לאחר מכן, לטבול את הוופל תחריט זהב במשך 90 שניות, בעדינות לנער את הסק.
לאחר שטיפת הוופל תחת זרימת מים deionized, להשתמש בזרימת חנקן יבש כדי להסיר את המים deionized הנותרים מן הוופל. מלבד האצטון, הפולוגרסיסט והמפתח, הריג'נטים המסוכנים ביותר הם פעולות המתכת הדורשות הגנה ברמה גבוהה יותר כגון כפפות ניאופרן וסנר. לבסוף, לטבול את הוופל תחריט כרום במשך 20 שניות, בעדינות מנער את הסק.
יש לשטוף את הוופל תחת זרימת מים מיונית. ושוב, השתמש בזרימת חנקן יבשה כדי להסיר את המים הנותרים. IDTs היו מפוברק באמצעות השיטות המתוארות.
המרווח בין האצבעות והאצבעות עצמן הוא ברוחב של 10 מיקרומטרים, וכתוצאה מכך אורך גל של 40 מיקרומטר. אות סינוזואידי הוחל על IDT ו vibrometer דופלר לייזר שימש כדי למדוד את משרעת ותדירות הגל האקוסטי פני השטח וכתוצאה מכך. תדירות תהודה נמצאה 96.5844 מגה הרץ, מעט נמוך יותר מאשר תדירות העיצוב של 100 מגה הרץ.
חלקה של הרטט על משטח המצע מראה גל אקוסטי פני השטח המתפרץ מן IDTs. בהתבסס על היחס בין משרעת מקסימלית משרעת מינימלית, יחס גל עומד חושב להיות 2.06. התנועה של טיפת sessile שהוטסה על ידי התקן SAW הודגמה.
טיפת מים של 0.2 מיקרוליטרים היה צינור על ליתיום niobate על מילימטר אחד מן IDT. כאשר SAW מפיץ ופוקל טיפה, הוא דולף לתוך הנוזל בזווית Rayleigh. זווית הסילון מאשרת את נוכחותו של גל אקוסטי פני השטח.
טכניקות אלה יכולות לשמש לייצור מגה הרץ או התקני הגל האקוסטי פני השטח. יש להתאים את התהליך אם נדרש מפעילי גל אקוסטי בתדר גבוה יותר. פרוטוקול זה מספק שתי שיטות מהימנות להכנת התקני גל אקוסטיים בתדר גבוה המשמשים למחקר אקוסטופלואידים מיקרו ננומטרי.
