複数のホログラフィック画像を生成することができる多機能メタ表面ホログラムは、現実の生活の超コンパクトホログラフィックディスプレイアプリケーションのための主要な平らな光学装置です。マルチプレックスメタルホログラムを生成するには、光の速度と伝搬トラクションに応じて、2つの異なるホログラフィック画像をレンダリングできる簡単なアプローチを使用します。多重金属ホログラムの設定を理解するために、製造プロセスと光学特性の両方の機能デモンストレーション、および測定ステップも同様に重要です。
キム・インキとの手順を実演するのが、私の研究室の博士課程の学生、ダソル・リーです。走査型電子顕微鏡法によるパターン堆積を特徴付けるには、導電性ポリマーを基板にドロップし、1分間に2000回転/分でスピンコードを行います。基板をカーボンテープでサンプルホルダーに固定し、エアボタンを押してロードロックチャンバーを通します。
ホルダーをロードロック室の保持ロッドに置き、EVACを押してロードロック室を退避します。ステージの高さと傾斜角度を設定するには、Z センサーを 8 ミリメートルに、T センサーをゼロ度に設定します。OPENボタンを押してロードロック室のドアを開け、保持ロッドを押してホールダーをメイン走査型電子顕微鏡室に移します。
ロッドを引き出し、CLOSEボタンを押します。真空状態を確認し、実行を押して炭素を除去するか、瞬時に高電圧で電子銃のほこりを除去します。顕微鏡ソフトウェアで点滅して、加速電圧が5キロボルトの電子銃をオンにし、ビームアライメントをクリックしてビームの位置合わせを調整し、電子ビームを中央の位置に正確に配置します。
ステージコントローラを使用して中心にビームを配置し、絞りアライメントをクリックして絞りを調整し、スティグマアライメントを使用して円形の電子ビームを作成します。スティグマコントローラを使用して、同じ場所をスキャンするだけで安定したビームを作成し、適切な焦点とスティグマ調整で走査電子画像をキャプチャします。すべての画像が取得されたら、[OFF]をクリックして電子ビームをオフにし、[Home]をクリックしてステージを元の位置に戻します。
ステージが位置したら、メインチャンバーのドアを開け、ロッドを押してサンプルホルダーを拾います。エアボタンを押してロードロック室を通気し、ホルダーをアンロードします。光学特性を考慮して、スピン多重化された金属ホログラムを使用して、1インチの光学マウントに差し込むことができるアダプタにダイオードレーザーモジュールを取り付け、ポストとポストホルダーを使用してダイオードレーザーの高さを調整します。
クランプを使用して位置を固定し、1 インチの回転マウントを使用してハーフウェーブ プレートを組み立てます。レーザーモジュールの前面にプレートを置いて直線偏光を回転させ、2つのミラーを個々の1インチの運動台に取り付けます。初期ビームの方向を揃えるには、レーザーの前に位置合わせディスクを配置し、レーザーの高さを設定します。
2 つのミラーを調整して、梁が 90 度で 2 回交互方向に曲がるようにし、2 番目のミラーの近くに位置合わせディスクを配置します。ノブを回して中心のライトを合わせて最初のミラーの角度を調整し、2番目のミラーから遠く離れた位置合わせディスクを動かします。次に、ノブを回転させて中心のライトを合わせて、2番目のミラーの角度を調整します。
ライトが両方の場所でアライメント ディスクの中心を通過するまでアライメントを繰り返し、ミラーの後ろにニュートラル密度フィルタを配置して、光の強度をコントロールします。中性密度フィルターの後ろに虹彩を置き、入射光の直径を制御します。直線偏光板を取り付け、かつ自主回転台に4分の1の波板を取り付け、直線偏光子を置き、虹彩の後ろに4分の1の波板を置いて円偏光を作ります。
加工した金属表面を穴のあるプレートに取り付けます。矩形光学用の XY 変換マウントにプレートを取り付け、サンプル内のパターンに光が向くように XY 変換マウントを調整します。レンズを金属表面の後に配置し、焦点距離に配置するレンズの位置を調整します。
次に、レンズの後に充電結合デバイスカメラを配置し、ホログラム画像をキャプチャします。光学的特性評価のために、方向多重化されたメタホログラムを使用する。4 分の 1 の波板の間にビーム スプリッタを配置し、XY 変換マウントを配置してビームを 2 方向に分割します。
次に、XY 変換マウントとレンズの間に別のビームスプリッタを配置します。ビームが 90 度と交互方向で 2 回曲がるように 2 つのミラーを配置し、2 番目のビーム スプリッターに向ける梁を調整します。最後に、光を合わせて、光がサンプルを正しく放射するように、正しい方向にサンプルを放射し、最初のビームスプリッターの右側に 90 度の別のレンズを配置します。
次に、電荷結合デバイスカメラを配置して、反対方向からホログラム画像をキャプチャします。明確なスピンを生成する最善の方法、および 2 つのホログラフィック 画像を配置する方向は、複数の光学部品を正確に配置することです。この走査電子顕微鏡画像では、水素化水素化非晶質シリコン金属表面を作製し、観察することができる。
スピン多重化された金属ホログラムは、入射した円偏光の手渡しを単に反転させることで、投影されたホログラフィック画像を切り替えることができます。異なる金属表面は、光が左または右に円偏光されているかどうかに応じて、異なる応答を生成することができます。その結果、入力ビーム偏光状態に応じて、情報技術大学、およびRho研究室ホログラフィック画像を高忠実度でリアルタイムに切り替えることができる。
方向マルチプレックスメタホログラムは、入射光方向を変更することで、投影されたホログラフィック画像を切り替えることができます。例えば、光が基板側から前方方向に来る場合、ホログラフィックのローラボ画像を観察することができる。光がメタ表面側から後方方向に来る場合、ホログラフィック情報技術大学の画像を可視化することができます。
予測画像の鮮明さは偏光、およびインスタント光の方向に非常に敏感であるため、コンポーネントの位置合わせは明確なホログラフィック画像を生成するために特に重要です。この多重化された金属ホログラムと活性材料プラットフォームを組み合わせたアクティブメタルホログラムを開発し、外部刺激によってプロジェクト、ホログラム画像を簡単に変更する予定です。
